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电镀液的处理(三):难溶盐沉淀法
更新时间:2016.01.11 新闻来源:

 

    难溶盐沉淀法


    此法是向镀液中加入适当的沉淀剂,使之与镀液中的有害杂质生成溶度积较小的难溶盐沉淀,然后过滤除去。
    难溶盐沉淀法应用范围较广,它可以去除金属杂质,也可以去除有害的阴离子。例如:在氰化物镀液中,用硫化物去除铅杂质;用氢氧化钙或氢氧化钡去除Na2C03:

 
    Pb2++S2-=PbS↓


    Na2C03+Ca(OH)2=CaC03↓+2 NaOH


    Na2C03+Ba(OH)2=BaC03↓+2 NaOH


    在镀镍溶液中,用亚铁氰化钠去除铜杂质;用Fe3+去除PO43-杂质及用铅盐去除铬酸根杂质等:

 
    2 Cu2++Na4[re(CN)6]=Cu2[Fe(CN)6]↓+4 Na+


    PO43-+Fe3+=FeP04↓


     Cr024一+Pb2-=PbCr04↓


    在镀铬液中,用Ag2 C03去除Cl一及用BaC03去除过量的S02.一:


    2 HCl+Ag2 C03=2 AgCl↓+C02↑+H2 0


    H2 S04+BaC03=BaS04↓+C02↑+H2 O


    在氨三乙酸一氯化铵镀锌液中,用磷酸盐去除铁杂质等:


    Fe3++P034一=FeP04↓


    沉淀处理时,一般应将镀液加热,以加快沉淀反应速度和增大沉淀颗粒,使之易于过滤。


    在加入沉淀剂时,若还能与溶液中的主金属离子生成沉淀的话,那么处理时应强烈搅拌,以促使沉淀剂与杂质作用。沉淀剂加入量不宜太多,以避免主盐损失较多而增加处理费用。 

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